GB-T 16841-2008 能量为 300 keV～25 MeV 电子束辐射加工装置剂量学导则

ICS_17.240 A 58 中华人民共和国国家标准 GB/T16841—2008/ISO/ASTM51649:2005 代替GB/T16841---1997 能量为 300 keV～25 MeV电子束辐射加工装置剂量学导则 Guide for dosimetry in an electron beam facility for radiation processing at energies between 300keV and 25 MeV (ISO/ASTM51649:2005,Standardpracticefor dosimetry in an electron beam facility for radiation processing at energies between 300 keV and 25 MeV,IDT) 2008-09-19发布 2009-08-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会 GB/T16841—2008/IS0/ASTM51649:2005 目次前言范围 2 规范性引用文件术语与定义意义和用途辐射源特性辐照装置的主要类型剂量测量系统加工参数安装确认运行确认 10 11 11 性能确认 12 12 日常生产加工 13 13 测量不确定度 14 14 证书 14 15 关键词 15 附录A（资料性附录）电子束深度剂量分布、材料加工产率和辐射加工期间的温升 16 附录B（资料性附录）束宽度及束宽度剂量不均匀度的测量 25 附录C（资料性附录）通过深度剂量分布确定电子束能量 26 附录D（资料性附录) 能量大于300keV的电子加速器的特性 33 参考文献 35

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